Intel

Intel ตั้งเป้าพัฒนาชิป 14A และ 10A ด้วยเครื่อง EUV Lithography

มีรายงานว่า Intel กำลังจะเปิดตัวเทคโนโลยีโหนดกระบวนการที่ใหม่กว่าในอีกไม่กี่ปีข้างหน้า (3, 20A และ 18A) บริษัทประสบความสำเร็จในกระบวนการผลิตที่ใช้ชื่อว่า Intel 7 ในปี 2021 โดยเริ่มจากโปรเซสเซอร์ในซีรีส์ Alder Lake ชื่อของ Intel 7 ยังถูกใช้ในชิปเซ็ตของ Raptor Lake, Sapphire Rapids, Xe-HP และ Xe-HPC และในปัจจุบัน Intel ก็กำลังมองไปสู่อนาคตด้วยโหนดกระบวนการใหม่สำหรับการผลิตจำนวนมากโดยอาจจะเริ่มส่วนแรกของปีหน้า

Intel กำลังมองหาการวิจัยและการพัฒนาอย่างต่อเนื่องของ Intel 4 ซึ่งเป็นเทคโนโลยีโหนดกระบวนการดั้งเดิมของขนาด 7 นาโนเมตร และจะเปิดตัวโปรเซสเซอร์ในซีรีส์ Meteor Lake และ Granite Rapids โดยมีการกล่าวกันว่า Intel 4 ให้ประสิทธิภาพต่อวัตต์ (PPW) มากกว่า Intel 7 ถึง 20 เปอร์เซ็นต์โดยใช้เครื่อง EUV lithography

Intel

Intel 20A และ 18A จะผลักดันให้เครื่อง EUV ที่ผลิตโดย ASML ผลิตโหนดกระบวนการ 1.8 นาโนเมตรภายในปี 2024 การพัฒนากระบวนการผลิตของ 20A และ 18A อาจไม่เป็นที่รู้จักกันสำหรับการผลิตโปรเซสเซอร์ แต่จะได้รับการนำมาใช้กับ RibbonFET และ PowerVia

Intel

ASML คาดว่าจะสามารถไปถึงเป้าหมายที่ขนาด 1 นาโนเมตรได้ภายในปี 2028 และอาจจะไม่ทันตามแผนของ Intel ที่กระบวนการ 14A ที่จะมาเป็นกระบวนการแห่งอนาคตของ Intel ด้วยการผลิตที่ 1.4 นาโนเมตร แต่อย่างไรก็ตามเครื่อง EUV lithography ของ ASML ที่กำลังพัฒนาอยู่ในรุ่น EXE:5000 ที่จะมาพร้อมกับเทคโนโลยีอย่าง High NA จะมาทันตามแผนการผลิตของ Intel สำหรับ 18A

ที่มา: wccftech

GameTonix Ads Banner 970x250